2025年2月23日~2月27日にサンノゼで開催されたSPIE Advanced Lithography+Patterningにおいて、 大家政洋さん (招へい研究員)と淺野 修一朗(M2)君が研究成果を発表しました。
- Masahiro Oya, Yosuke Okamoto, Shinichi Nakazawa, Kotaro Maruyama, Yuichiro Yamazaki, Shinji Murakami, Yoshihiro Midoh, and Noriyuki Miura, “Advanced pattern contour extraction function for see-through BSE images of high voltage SEM”
- Shuichiro Asano, Yoshihiro Midoh, Jun Shiomi, and Noriyuki Miura, “A comparison of generative AI models for the top-down SEM image of line and space pattern”

