2024年2月25日～2月29日にサンノゼで開催されたSPIE Advanced Lithography+Patterningにおいて、 大家政洋さん (ナノスコピック半導体DX共同研究講座 特任研究員)が研究成果を発表しました。
- Masahiro Oya, Yosuke Okamoto, Shinichi Nakazawa, Kotaro Maruyama, Yuichiro Yamazaki, Shinji Murakami, Yoshihiro Midoh, and Noriyuki Miura, “Utilization of active contour model with 3D-SEM simulation for see-through BSE image of high voltage SEM”, Proc. SPIE 12955, Metrology, Inspection, and Process Control XXXVIII, 129550R, Feb. 2024, DOI: 10.1117/12.3011075
