2026年2月23日～2月26日にサンノゼで開催されたSPIE Advanced Lithography+Patterningにおいて、 村上慎治(M2)君が研究成果を発表しました。
- Shinji Murakami, Yoshihiro Midoh, Masahiro Oya, Yosuke Okamoto, Shinichi Nakazawa, Kotaro Maruyama, Yuichiro Yamazaki, Noriyuki Miura, “Occlusion-aware pattern measurement for see-through BSE images of HV-SEM via contour- and pixel-based approaches”
